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- 薄膜材料表面缺陷分析用飞纳

- 薄膜材料表面缺陷分析用飞纳
Phenom XL G3 是飞纳推出的大仓室台式扫描电镜,可用于薄膜材料表面缺陷分析,帮助观察划痕、颗粒、孔洞和结构特征。
Phenom XL G3 平均成像时间约 40 秒,可对最大 100 x 100 mm 的样品进行分析,适合较大尺寸样品或多样品检测场景。设备采用 CeB6 灯丝,电子光学放大倍数可达 200,000 X,分辨率优于 8 nm,适用于日常质检、研发分析、失效分析和样品测试等应用。
该产品具备大仓室样品台、低/中/高三种真空模式、背散射探测器,并可根据需求选配二次电子探测器和能谱探测器。具体配置和价格根据型号、功能及应用需求确定,可通过平台询价/留言入口获取选型建议,并预约试样。
产品特点:
1. 大仓室设计,可分析最大 100 x 100 mm 样品。
2. 平均成像时间约 40 秒,适合多样品观察和日常检测。
3. 电子光学放大倍数可达 200,000 X,分辨率优于 8 nm。
4. 采用 CeB6 灯丝,使用寿命优于 3000 小时。
5. 支持低、中、高三种真空模式,适合多类材料样品。
6. 标配背散射探测器,可选配二次电子探测器和能谱探测器。
7. 台式设计,适合实验室日常部署与使用。
8. 支持选型咨询,可预约试样。
应用领域:
可用于薄膜材料表面缺陷分析、高分子薄膜检测、包装材料观察、表面形貌分析和质量控制。
